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新產(chǎn)品:

反應(yīng)磁控

                  

反應(yīng)磁控濺射系統(tǒng): 高薄膜質(zhì)量、高精度

高均勻性、適合研發(fā)和量產(chǎn)。

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公司背景:

       三河市衡岳真空設(shè)備有限公司由張誠博士于2015年創(chuàng)立,專注于高端真空鍍膜設(shè)備研發(fā)及制造的高科技公司。公司位于三河市燕郊開發(fā)區(qū)全景工業(yè)園,擁有1500平方米標(biāo)準(zhǔn)廠房。公司匯集了薄膜工藝、自動(dòng)化控制、機(jī)械制造等各方面優(yōu)秀人才。公司總經(jīng)理張誠2004年初獲北京理工大學(xué)光學(xué)薄膜專業(yè)博士學(xué)位,之后12年時(shí)間里服務(wù)于歐美真空鍍膜設(shè)備公司駐華機(jī)構(gòu),先后負(fù)責(zé)過中國市場(chǎng)的銷售、技術(shù)服務(wù)以及外銷設(shè)備在國內(nèi)的生產(chǎn)制造,積累了豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。

公司理念:

       以工藝為導(dǎo)向,堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新,堅(jiān)持自主核心技術(shù),為用戶設(shè)計(jì)制造技術(shù)優(yōu)良、穩(wěn)定可靠、操作方便的真空鍍膜系統(tǒng)。

一.堅(jiān)持工藝為導(dǎo)向

       公司堅(jiān)持以工藝為導(dǎo)向,為客戶提供完善的工藝解決方案,并與2016年底成立了鍍膜工藝中心。

       1. 對(duì)比較特殊的工藝,衡岳工藝部門可提供試鍍服務(wù),保證客戶買得放心;

       2. 從工藝角度出發(fā)改進(jìn)設(shè)備,使設(shè)備貼合工藝要求;

       3. 提供鍍膜外協(xié)服務(wù);

二.堅(jiān)持核心技術(shù)自主研發(fā):
        技術(shù)創(chuàng)新是公司的價(jià)值和生命,公司堅(jiān)持自行開發(fā)核心部件,以保證核心競爭力和技術(shù)持續(xù)改進(jìn)能力。衡岳真空成立后兩年半時(shí)間內(nèi),在研發(fā)上的累計(jì)投入已經(jīng)超過500萬人民幣。到2017年9月,公司提交了三項(xiàng)發(fā)明專利申請(qǐng)。設(shè)備方面完成了下列技術(shù)工作:

       1. 完善定型了常規(guī)磁控濺射系統(tǒng)SP530和SP600;

       2. 完善定型了電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)EB450,EB660,EB800,EB900;

       3. 開發(fā)定型了高頻感應(yīng)蒸發(fā)系統(tǒng)IH450;

       4. 開發(fā)定型了精密磁控濺射系統(tǒng)ASP750,ASP900,ASP1200(均勻性優(yōu)于±0.5%,重復(fù)性+/-1%);

       5. 開發(fā)定型了反應(yīng)磁控濺射系統(tǒng)RSP750,RSP900 , RSP1200(均勻性優(yōu)于±0.5%,重復(fù)性+/-1%)。

       自行開發(fā)完成的核心部件包括:

       1. 開發(fā)定型了2-10英寸直徑的圓形磁控濺射靶槍;

       2. 開發(fā)了用于濺射的直流濺射電源,直流脈沖電源;

       3. 開發(fā)了磁控濺射用自動(dòng)切換器;

       4. 開發(fā)了用于自動(dòng)進(jìn)樣的機(jī)械傳送裝置;

       5. 開發(fā)了高頻感應(yīng)蒸發(fā)用多坩堝旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)

       6. 開發(fā)了兩種離子源,包括一種霍爾源和一種新型的免維護(hù)射頻離子源;

產(chǎn)品和服務(wù):

真空鍍膜設(shè)備:

  1. SP530、SP600 共焦磁控濺射系統(tǒng)—適合于直流、脈沖直流、射頻磁控濺射金屬、介質(zhì)材料薄膜;
  2. EB450、EB660、EB800、EB900電子束蒸發(fā)系統(tǒng)—可以配置射頻離子源;
  3. EH450高頻感應(yīng)蒸發(fā)系統(tǒng)—采用高頻電流感應(yīng)的方式蒸發(fā)蒸發(fā)溫度在1500度以下的材料,相比傳統(tǒng)阻蒸具有蒸發(fā)速率穩(wěn)定,裝料量大,節(jié)省材料,坩堝可以反復(fù)使用等優(yōu)點(diǎn),替代傳統(tǒng)電阻蒸發(fā);
  4. ASP750,ASP900,ASP1200精密磁控濺射系統(tǒng)—適合于批量生產(chǎn)及要求高均勻性、重復(fù)性磁控濺射鍍膜,采用垂直濺射方式;
  5. RSP750,RSP900,RSP1200反應(yīng)磁控濺射系統(tǒng)—采用反應(yīng)磁控濺射方式鍍制氧化物或者氮化物,薄膜致密性超過電子束離子輔助沉積,均勻性、重復(fù)性好,可以進(jìn)行精密光學(xué)鍍膜,或者鍍制高致密性氧化物、氮化物薄膜;

真空鍍膜服務(wù):

       公司工藝部承接鍍膜外協(xié)服務(wù),以及為設(shè)備提供工藝開發(fā)、試鍍服務(wù)。

公司優(yōu)勢(shì):

  1. 性價(jià)比高:所有定型設(shè)備,性能均等同或者超過國外同類進(jìn)口設(shè)備,有競爭力的價(jià)格,優(yōu)質(zhì)快捷的技術(shù)支持和售后服務(wù);
  2. 研發(fā)能力強(qiáng):公司匯集了機(jī)械設(shè)計(jì)、自動(dòng)化控制、薄膜工藝的專業(yè)人才,現(xiàn)有博士一人,碩士六人,本科16人,有持續(xù)研發(fā)改進(jìn)設(shè)備的能力;

公司重要事件:

  • 2017年6月改進(jìn)了高頻感應(yīng)蒸發(fā)技術(shù),使其可以蒸發(fā)材料的最高溫度從700度提高到1500度,大大增加了高頻感應(yīng)蒸發(fā)技術(shù)的適用范圍;
  • 2017年5月定型了新型射頻離子源RIS系列;
  • 2017年4月定型了反應(yīng)磁控濺射系統(tǒng)RSP1200,相比測(cè)試型RSP系統(tǒng)    性能大幅提升;
  • 2016年10月優(yōu)化改進(jìn)了進(jìn)樣室,大幅提高了進(jìn)樣室傳送穩(wěn)定性;
  • 2016年8月優(yōu)化改進(jìn)了磁控濺射靶槍結(jié)構(gòu),解決了靶材安裝面變形的問題,一方面提高了靶材散熱效果,從而保證工藝穩(wěn)定性;另一方面解決了安裝面變形擠碎化合物靶材的問題;
  • 2016年6月定型了量產(chǎn)型精密磁控濺射系統(tǒng)(ASP系列);
  • 2015年10月推出測(cè)試版反應(yīng)磁控濺射系統(tǒng)RSP750;
  • 2015年8月定型高頻感應(yīng)蒸發(fā)技術(shù)和設(shè)備(IH系列);
  • 2015年6月定型常規(guī)磁控濺射臺(tái)(SP系列);
  • 2015年5月定型電子束蒸發(fā)設(shè)備(EB系列);

 

 

射頻離子源

                                    

新型射頻離子源: 高離化率、無污染、

無損傷、免維護(hù)、可以長時(shí)間連續(xù)工作

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衡岳真空-專注于物理氣相沉積技術(shù),為您解決鍍膜問題

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