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衡岳真空專注于物理汽相沉積技術（PVD），我們的產品包括：電子束蒸發系統（研發及量產），常規磁控濺射系統（研發及小批量），高頻感應蒸發系統（研發及量產），等離子體增強反應磁控濺射系統（研發及量產）及精密磁控濺射系統（研發及量產），以及多種技術組合的定制系統。

	電子束蒸發系統
		標準型號EB-400、EB-660、EB-800、EB-900，可定制更大型號電子束、高頻感應蒸發進行金屬或者精密光學鍍膜衡岳真空霍爾離子源或新型射頻離子源可選石英晶體膜厚控制器控制蒸發速率和厚度不同數量及尺寸坩堝可選高頻感應蒸發旋轉阻蒸可選多種形式工裝可選計算機全自動控制	下載產品彩頁

	常規共焦磁控濺射系統
		標準型號SP-530、SP-600、SP-730 采用直流、脈沖直流、射頻磁控濺射金屬、介質材料薄膜共焦濺射結構 SP530工件盤直徑6英寸，SP600工件盤直徑9英寸，SP730工件盤直徑13英寸一次濺射一個工件盤，適合研發及小批量生產自動進樣室可選多種形式工件臺可選（普通、水冷、加熱、偏壓預清洗或多種功能組合工件臺）計算機全自動控制	下載產品彩頁

	IH450高頻感應蒸發系統
		采用高頻感應加熱方式替代常規電阻蒸發技術最高加熱溫度1600度相比傳統阻蒸，具有裝料多、節省材料、蒸發穩定、坩堝可以反復使用、蒸發過程不噴濺等優點高頻感應旋轉阻蒸可選該技術可以組合到磁控濺射或者電子束蒸發系統中計算機全自動控制	下載產品彩頁

	等離子體增強反應磁控濺射系統
		2016年研制完成并推出，適合于鍍制高致密性、高均勻性、高重復性薄膜的工藝應用快速沉積金屬薄膜以及高致密性氧化物、氮化物薄膜三個型號：RSP-750、RSP-900、RSP-1200，適應不同產能要求結合了離子束濺射膜層致密、重復性高的優點和電子束蒸發速率快、產能高的優點使用、維護簡單方便，易損件少均勻性優于±0.5%，重復性±-0.5% 適合鍍制超薄膜層、復雜的多層膜系、低溫鍍膜計算機全自動控制	下載產品彩頁

	精密磁控濺射系統
		和反應磁控濺射同步推出，適合于鍍制高致密性、高均勻性、高重復性的金屬（直流濺射）或者介質薄膜（射頻濺射）的工藝應用三個型號：ASP-750、ASP-900、ASP-1200，適應不同產能要求適合量產要求，ASP-750一次鍍制四個8英寸工件盤，ASP-900一次鍍制五個10英寸工件盤，ASP1200一次鍍制五個12英寸工件盤均勻性優于±0.5%，重復性±-0.5% 使用、維護簡單方便，易損件少適合鍍制超薄膜層及低溫鍍膜計算機全自動控制	下載產品彩頁

	新型射頻離子源
		高離化率（純氧氣離化率>60%）工作氣體氬氣、氧氣、氮氣等，可以在純氧氣環境下穩定工作無污染，離子源不發出任何雜質無損傷，離子能量可以控制到極低的水平，不會對基片造成損傷免維護，基本無耗材，使用簡單可以長時間連續工作（>300小時）	下載產品彩頁

衡岳真空-專注于物理氣相沉積技術，為您解決鍍膜問題

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